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펄스도금 성막 기술
na

등록 : 2019.12.14 ⋅ 12회 인용

출처 : 전기화학, 52권 7호 1984년, 일어 7 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

パルスめっき成膜技術

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자료요약
카테고리 : 전기도금통합 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2021.01.07
펄스전해에 가장 특징적인 물질이동 과정 및 전석형태에 크게 영향을 영향을 미치는 전석핵의 발생, 성장에 관하여 기초적인 개요 설명과, 도금 막 형태에 있어서 펄스각인자의 영향에 관하여 설명하고, 펄스도금에 의한 성막 기술로서 귀금속도금, 합금도금, 비정질도금등에 관하여 설명하였다.
  • 무전해 크롬도금 ^ Electroless Chromium Plating 3가크롬욕을 이용한 치환형을 이용한다. 니켈 소지용 16 g/l 취화크롬 1 g/l 염화크롬 9 g/l 가성소다 10 g/l 구연산소다 ...
  • 중성 금도금욕 ^ Neutral Gold Plating Bath 내마모성이 우수하고 전기저항이 낮다. 도금후의 경도는 HV 250~300 이지만 열처리하면 HV 400~450 이 된다. 금-구리 합금으로...
  • 황산으로 산성화된 묽은 Cr(vi) 용액에서 아연의 크롬산염 처리에 관한 것이다. 패널대신 아연 분진을 사용하여 넓은 면적의 표면이 동시에 반응하도록 하였다. 반응의 특징...
  • Ag/탄소 나노튜브(CNT) 복합 피막을 비시안화욕에서 전착하였다. 다양한 pH 범위의 주변 조건에서 요오드화물 욕의 안정성을 시각적 외관, pH 및 삼요오드화 이온(I3-) 농도...
  • 알루미늄에 크롬이 없는 변환피막의 개발은 투과전자 현미경 (TEM), Auger Electron (AES) 및 2차이온 질량분광법 (SIMS) 기술을 사용하여 연구되었다. TEM 의 해상도 한계...