로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 붕산 10건

습식도금 자료분류

자료수 10845 건

추천글

Tag LIST

도금욕과 방법
Plating bath and process

등록 : 2008.09.23 ⋅ 127회 인용

출처 : 미국특허, 1962-3021267, 영어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
⋅ ⋅ ⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.09
현재의 상업용 크롬도금 공정은 삼산화크롬, 소량의 촉매 (예 : 황산염, 불화물 등) 를 포함하는 크롬산 CrO3 용액의 전기분해를 기반으로 한다. 이러한 상업적 공정에서 허용되는 품질의 광택편을 생산하려면 도금중 전류밀도와 온도를 면밀히 제어해야한다.
  • 고전류밀도를 가진 밀착성이 좋은 간단한 액조성의 주석 전해욕의 개발을 목적으로, 염산산성염화주석욕의 기본욕조성과 여기에 카티온 계면활성제첨가의 효과에 관한 검토
  • 환원제와 같은 차아인산소다을 사용하여 산성용액에서 얻은 Ni-P 무전해도금의 형성 및 특성에 대한 암모늄아세테이트의 효과를 조사하였다. 얻은 결과는 도금속도, 표...
  • 니켈 이온 공급원, 유효량의 티오우레아, 유효량의 사카린, 차아인산 이온 공급원, 하나 이상의 킬레이트제, 첨가제의 고인 무전해 니켈 도금으로 진한 질산에 30초간 침지...
  • 전석 나노 결정 재료는 그 미세한 결정 입경에 의해 높은 강도나 경도를 나타낸다. 그러나 많은 전석 나노 결정 재료에서 연성은 얻어지지 않았다. 이 요인으로는 프로세스 ...
  • 1.0 M 이상의 농도에서 NaCl 로 염화물 이온을 첨가하면 LCD 영역의 두께가 향상되었으며 헐셀 음극의 두께 분포는 LCD 끝에서도 전류효율이 100 % 임을 시사했다. 염화물 ...