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구리도금 방법
Method for copper plating deposition

등록 : 2008.09.24 ⋅ 38회 인용

출처 : 미국특허, 2003-6663915, 영어 11 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.15
소재와 활성화제가 미리 결정된 기간 동안 서로 접촉하기 위해 구리도금조에 침지되는 배리어 층을 갖는 소재에 구리 도금방법을 설명한다.
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  • 팔라듐 및/또는 팔라듐합금의 무전해도금을 위한 수용성도금욕 조성물 및 이러한 조성물을 이용하는 방법에 관한 것이다. 도금욕은 팔라듐이온 공급원, 환원제, 인이 없...
  • AURUNA? 8100 is a high-speed electrolyte for depositing hard gold coatings for use in high-speed plants. Such plants, e.g. for the high-speed gold plating of pri...
  • 비시안화형 금-주석 합금도금욕에 의하면, 비시안화형의 도금욕을 사용하여, 양호한 광택성, 리플로우성 등을 갖는 금-주석 합금도금 피막을 형성
  • 무전해 Ni-P/Au 및 Ni-P/Pd/Au 도금에 관하여, 적층화에 의한 막중의 수소량의 변화를 조사