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황산 프리 무전해구리 도금욕
SUlfate Free electroless copper plating baths

등록 : 2009.09.10 ⋅ 43회 인용

출처 : 미국특허, 1994-5306630, 영어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.30
구리 이온, 포름 알데하이드, 포름산염 이온, 하이드록실 이온, 구리결합 이온, 예를 들어 아세테이트, 포름산염의 질산염과 같은 1가 음이온 및 아미노트리스의 알칼리 금속염과 같은 구리 킬란트 (메티엔 인산, 비스 카복시메틸 아스파르트산)를 포함하는 무황산염 무전해 구리, 에틸레 미디 네이트 (메틸렌 인산)는 용매 ...
  • 최근에는 고밀도 자기기록을 사용하기 위해 박막 헤드 또는 유도 박막헤드의 코어에 고포화 자기 유도 피막을 사용해야 하므로 포화자화가 높은 연자성 재료를 개발하는 것...
  • 주석-납의 전기도금 및 스트리핑을 위한 가능한 대체 화학물질을 결정하기 위해 평가하였다. 우리의 첫 번째 목표는 유해 폐기물 감소였습니다. 전기도금 공정에서 납(중금...
  • 계면장력 · Interfacial tension 분자가 분자끼리 서로 끌어당겨 응집 또는 모이려는 힘 (분자력) 에 의해 가능한 작은 표면적 상태가 되려고 하는 성질을 계면장력 이라고 ...
  • 진공도금 · Vaccum Plating 진공증착ㆍ스퍼터링ㆍ이온플레이팅 등은 모두가 진공 용기중에서 막을 생성하는 기술로 진공도금 또는 화학적으로 PVD (Physical Vapor Depositi...
  • 전해연마는 전해조에서 금속의 양극용해에 의한 금속 표면의 평활화 또는 광택작업을 하는것으로 정의 할 수있다. 여러 장식 및 기술 응용 프로그램에 사용되며, 표면의 전...