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금속 후막 구조체 제작기술에 관한 연구

등록 : 2009.09.17 ⋅ 35회 인용

출처 : 한국전자통신연구소, 1996.12.1, 한글 47 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

박영준1) 김용권2) 이종현3) 백창욱4) 임형택5) 김성혁6)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.23
대표적인 위치 인식 소자인 가속도계와 각속도계의 경우 현재 주로 실리콘 마이크로머시닝에 의해 제작되고 있으나 실리콘 마이크로머시닝으로는 기본적으로 높은 ,구조물 이상 제작이 어렵기 때문에 입력전압이 높고 출력 감도가 떨어진다는 단점이 (10 ) ㎛있다. 본 연구는 이러한 위치 인식 소자의 성능 향상을 위해 높은...

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