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니켈도금에 있어서 염화물이온의 역할
Role of chloride ion on Nickel Plating

등록 2010.01.15 ⋅ 62회 인용

출처 표면기술, 41권 3호 1990년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.03.23
미량의 발생 깨스량을 측정가능한 셀을 이용하여, 여러 pH의 황산니켈, 염화니켈 및 이들의 혼합액 수용액중에, 니켈전극을 캐소드분극으로 하고 동시에 발생하는 수소량을 연속측정하여 니켈의 석출 및 수소발생의 각각의 분극고선을 만드는 시험
  • Niplate 500은 인 함량이 높은 무전해 니켈 도금액 입니다(P에서 10~13%). 식품과 접촉하거나 부식성의 화학 물질에 대한 내식이 필요한 경우에는 다른 Niplate 도금보다 우...
  • 알콕실기를 가진 비스 (3-트리에톡시실릴) 에탄, 비스 (3-트리에톡시시릴프로필) 테트라슬파이트 및 비스[3-(트리메톡시시릴) 프로필] 아민을 알루미늄 부식억제제에 관하여...
  • 종점에서 pH의 변황에 따른점을 착안하여 각각의 적정중의 pH 변화와 Ni(OH)2의 침전이 없는 분석에서의 pH 변화에 대하여 검토하여 명확하고 오차가 적고 조작이 간단한 새...
  • Technic EBA는 AC 및 DC 전압전류법과 최첨단 화학측정법의 조합을 활용한 유일한 상용 분석기다. Chemometrics는 수학, 통계 및 형식 논리를 사용하여 데이터를 분석하...
  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.