로그인

검색

검색글 권덕율 1건
Cu electroplating 후 annealing처리가 Cu 막에 미치는 효과
Effects of post-deposition annealing on the copper film electroplated on the ECR plasma cleaned copper seed layer

등록 2011.06.10 ⋅ 231회 인용

출처 인하대학교, 2004년 2월, 한글 73 쪽

분류

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.09.23
전기도금 기술이란 도금하고자 하는 금속이온이 존재하는 수용액 중에 wafer를 담가 전기화학적으로 Cu를 도금하는 방법(electrochemically deposited)을 말한다. 즉 수용액 중에 wafer를 담그면서 도금하는 방법으로 전원과 수용액을 연결할수 있도록 conformal한 전도막(seed layer)을 필요로 한다. 이러한 전도막(seed la...
  • 금속 산업에서 발생하는 폐수에는 환경에 유해하고 대중에게 잠재적 인 건강 위험을 초래하는 고농도의 오염 물질이 포함되어 있다. 폐수 배출을 규제하는 규제가 점점 더 ...
  • 3가크롬 ㆍ Trivalent Chrome [삼가크롬염|3가 크롬염] Trivalent Chrome Overview, PFonline 참고 [3가크롬도금|3가크롬 도금] [6가크롬도금|6가크롬 도금] [크롬도금] [크...
  • 전기 영동 코팅법 등으로 이미 익숙한 콜로이드 입자계의 계면진동 전기현상에 관하여 말한다. 전기 진동, 전기침투 유동전위, 그리고 침강전위 등은 다른 현상처럼 보이는 ...
  • 팔라듐을 사용하여 알루미늄 및 그 합금을 활성화하는 방법과 상보적인 금속산화물 반도체 CMOS 기반 센서 애플리케이션을 위한 후속 무전해금도금 ELP를 제시 하였다. ...
  • 개선된 내부식성을 부여하기 위해 패시베이트막을 증착시키기 위해 금속표면, 특히 아연 및 아연합금표면을 처리하기 위한 산성수용액 및 공정. 이 용액은 실질적으로 모든 ...