로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 J.W. Dini 3건
DC 펄스와 비대칭 AC 도금에 의한 금 Au 석출 생산품의 특성
The properties of gold deposits produced by DC, pulse and asymmetric AC plating

등록 2011.09.09 ⋅ 71회 인용

출처 Gold Bulletin, 14권 1호 1981년, 영어 4 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 ⋅
자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.11
전착에서 DCㅊ대신 펄스전류 (PC) 또는 비대칭 AC 를 사용하는 연구에서, 일반적으로 코발트 또는 니켈을 포함하는 산성 시안화물 전해질에서 DC 에 의해 도금되는 경질 금도금에 PC 가 미치는 영향에 상당한 주의를 기울였다. 합금 금속이 없는 상태에서 PC, 비대칭 AC 및 DC 도금으로 제조 된 금박의 특성을 시안화물 황산...

연관글

  1. 연구문헌자료.. 전해 Zn-Ni 층의 고전적 및 국소적 부식 저항
  2. 도금기술노트.. PR
  3. 연구문헌자료.. PR 펄스 전해를 이용한 리드 프레임 상의 입상 황산구리 도금 형성
  4. 연구문헌자료.. 은-갈륨 합금의 펄스 전류 전기 도금
  5. 도금재료 카타록/TDS.. COPPER GLEAMTM CuPulse Copper Plating Process
  6. 연구문헌자료.. 다마센스 비아필링 공정의 MPS-PEG 2첨가제 시스템을 사용한 나노트윈드 구리의 펄스 전기도금
  7. 연구문헌자료.. 직류 및 펄스 전류를 사용한 염화욕에서 전착된 아연-니켈 합금 피막
  8. 연구문헌자료.. Cr+3(3가크롬) 전해질로부터 크랙 프리 크롬 Cr 피막
  9. 연구문헌자료.. 펄스 전류 전해에 있어서 산성 황산구리욕으로부터 구리의 전착에 있어서 중간체 (Cu) 의 역할
  10. 연구문헌자료.. 안정제로 에틸렌디아민을 포함하는 용액으로부터 펄스 도금에 의해 동시 전착 전기도금된 금-주석 땜납 합금의 구조 및 조성
  • 도금액의 분석에 이용되는 헐셀도금에 관하여 그 원리와 도금피막에 대한 영향을 직접도금과 비교하고, 그 고속도금에의 응용에 관하여 소개 [パルスを利用した高速めっき]
  • 이 「특허 검색 가이드 북」은 특허청의 심사관이 실제로 선행 기술 조사를 실시한 경험을 바탕으로 작성하고, IPC, FI, F-term 등의 검색 키에 대한 지식이다 사람이 사용...
  • 아연-망간 합금의 전착은 푸르푸르 알데하이드 (FRL) 및 L-리신일 염산염(LL) 의 축합 생성물 (CP) 을 함유하는 황산욕에서 시도하였다. 욕 성분, pH, 전류밀도 및 피막의 ...
  • 전기 도금은 넓은 의미에서 금속 착색법이라고 생각할 수 있지만, 일반적으로 장식 및 방청 용도로 사용되는 것은 생략하고 착색 목적으로 사용되는 것을 설명한다.
  • 니켈-망간 합금도금 ^ Nickel-Maganess Alloy Plating 니켈 중에 황이 함유되면 열처리할 때 취성이 생기지만, 망간이 함유되면 취성을 방지할 수 있다. [전주니켈도금|니켈...