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새로운 구리의 화학 에칭 처리제
A novel chemical etching reagent for copper
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분류
화학에칭 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
온화한 조건하에서 구리에 대한 선택적으로 사용하는 새로운 화학에칭처리법의 개발
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각종 입자 (수용성 카본블랙 입자 (Tokai Carbon Co., Ltd.:CA), 탄소 입자 (SEC Co., Ltd. : SCN), 흑연 입자 SEC Co., Ltd. : SGP) (Showa Denko Co.,Ltd. : GR), 이황화 ...
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표준전기 도금의 이론과 메커니즘을 거칠 필요가 없지만 진정한 무전해 또는 자동촉매 도금과 비교하여 변위도금 및 화학적 감소의 유사점과 차이점을 조사할 가치가 있다.
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정류기란 AC 전원을 인가 받아 정류회로를 거친후 DC를 출력한는 방식이며, 전압 및 전류를 가변할수 있는 것을 정류기라 한다.
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도금욕은 CuSO4 와 H2SO4 였다. 전계방출 주사 전자현미경 (FESEM) 결과를 통해 새로운 도금이 고속 MAEE 공정에서 부드럽고 세련된 표면형태를 보여주었다. 추가 연구에 따...