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수용액에 의한 에칭거동과 그 제어 요인
Behavior and control factor of etching process by an aqueous solution -focusing on a Wet etching og copper

등록 2008.09.03 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 59권 2호 2008년, 일본어 4 페이지

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.26
구리회로제작방법에 주로 사용하는 용액을 이용하여, 화학에칭을 중심으로 속도론적 고찰의 기초적 사항 제공
  • 금 Au 도금은 직류도금 (DCP) 및 펄스전류 증착 (PCD) 방법 모두에 의한 간단한 화학적 전처리를 사용하여 AA 1100 알루미늄 합금에 형성되었다. DCP 및 PCD 방법 모두에 의...
  • HEDP를 배위제로 사용하고 ZNP를 첨가제로 사용하는 광택 아연-니켈 Zn-Ni 합금공정의 전기도금을 연구하였다. Ni 함량에 대한 배위제, 염화물 함량, [Zn 2+ ]/[Ni 2+ ], 음...
  • 주요산업 생산관행에서는 전착에 필요한 크롬이온이 황산음이온을 제공하고 촉매역할을 하는 크롬산-황산 용액을 사용하였다. 플루오로 규산 용액, 자가조절 고속도금조, 테...
  • 6가크롬 도금 규제의 동향 및 실용화 되고 있는 3가크롬 도금방법의 현황에 관하여 해설
  • 도금공정의 수많은 위험들을 체계적으로 찿아내고 분석할 수 있는 적합한 안정성 평가기법을 선정하고 공정 및 기기의 역할, 사용물질을 파악하여 도금 공정의 위험성을 제...