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고온 인산망간 피막의 두께에 있어서 인산염 처리의 효과
Effect of Phosphating Process on the Thickness of High Temperature Manganese Phosphating Film

등록 : 2020.10.28 ⋅ 29회 인용

출처 : Plating and Finishing, 40권 10호 2018년, 중국어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

磷化工艺对高温锰系磷化膜厚度的影响

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2020.11.10
고온 인산망간염 피막의 두께에 대한 산세, 표면 컨디셔닝 농도, 인산염 용액 농도 및 인산염처리 시간을 포함하는 다양한 인산염처리 공정을 논의하였다. 그 결과 산세가 없으면 인산염 피막의 성장이 어려웠고, 실험실 및 생산 현장에서 실험을 통해 산세 시간과 산 농도의 차이에 의해 막 두께가 영향을 받지 않는 것...
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  • 산화알루미늄 Al2O3 입자가 포함된 은 Ag 티오시안산 용액에서 전착된 Ag-Al2O3 피막의 특성을 조사했다. 첨가된 Al2O3 입자의 양이 증가함에 따라 Ag 전착막의 Al2O3 석출...
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  • 전기화학공정에 의한 기능 피막을 형성하는 최신표면처리 기술로서, 금속과 무기 미립자의 조합에 관한 기술은 실제로 많이 사용되고 있으며, 우수한 피막 특성도 나타내고 ...
  • 마그네슘의 부식, 실용되고 있는 표면처리기술에 관하여 설명하고, 환경보존면으로 절망적인 크롬프리처리에 관하여 설명