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TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 : 2014.02.23 ⋅ 16회 인용

출처 : 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
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  • 이 책은 독자들에게 유해용매에 관한 현재상황을 포함하여 기초부터 최신개발에 이르기까지 비수성 용액의 전기 화학에 대한 지식을 제공하기 위해 작성되었다. 이 책은 두 ...
  • 2가 카복실산 또는 알칸 설폰산으로부터 선택되는 산, 염산, 황산, 인산 및 질산으로 이루어진 군에서 선택되는 산, 알킬벤젠 설폰산 염 및 분자 내에 아세틸렌 결합을 갖는...
  • Ni-Al(OH)3 계에 있어서 비혼탁도금이 가능한 보고가 있어, 여기에 NO3- 의 전해 환원기 pH 전환을 이용한 피막제작 및 만든 피막의 물성에 관한 보고
  • 차아인산소다 환원제, 연산염을 착화제로한 무전해코발트 도금욕의 환원제 또는 금속이온을 제외한 욕에 관한 분극곡선의 합성에 의한 도금속도의 추정과 중량증가로 구한 ...