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TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

등록 : 2014.02.23 ⋅ 16회 인용

출처 : 마이크로전자 및 패키징학회지, 19권 2호 2012년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.15
첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 다양한 첨가제 중에 평활제만을 사용하여 비아필링 실험을 진행하였으며, 첨가제의 양에 따른 표면 형상 및 비아필링의 형상을 관찰
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  • 티타늄 및 티타늄 합금에 있어서 플라즈마 전해산화 피막의 제작을 시도한 결과, 플라즈마 전해산화와 후처리의 처리공정에 따라, 밀착성, 내마모성 등에 우수한 양극산화 ...
  • 귀금속 회수의 주변기술과 새로운 대처를 소개하면서, 재활용된 귀금속을 다시 도금용 원료로 이용하는 것의 의미에 대해 설명한다.
  • 아연-니켈 Zn-Ni 합금 도금에 부식방지 흑색크롬산염 피막을 형성할수 있는 화학적으로 안정한 흑색크롬산염 용액이 제공되며, 성분은 용액에 쉽게 용해 된다. 흑색 크롬산...
  • 염화암모늄 아연도금욕 ^ Ammonium Chloride Zinc Bath 욕중의 반응 Zn(NH4)2Cl4 + 2NH3 + 2OH - ↔ Zn(NH3)4Cl2 + 2H2O + 2Cl - Zn(NH3)4Cl2 ↔ Zn(NH3)4Cl2++ + 2Cl - Zn(NH...