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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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웨이퍼 세척기술
Wafer Cleaning Technology

등록 : 2010.02.08 ⋅ 47회 인용

출처 : 표면기술, 50권 10호 1999년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 산세/탈지 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.22
웨트세척기술의 개념을 소개할 목적으로, 대표적인 세척법으로 RCA 섹척과 자연산화제거법을 이용한 HF계 세척 및 건조기술, 드라이에칭후에 형성된 레지스토 잔유물의 제거, 파티클제거에 이용되는 물리세척, 기능수등의 기술에 대하여 설명