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웨이퍼 세척기술
Wafer Cleaning Technology

등 록 2010.02.08 ⋅ 58회 인용

출 처 표면기술, 50권 10호 1999년, 일어 6 쪽

분 류 해설

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자료요약
카테고리 : 산세/탈지 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.22
웨트세척기술의 개념을 소개할 목적으로, 대표적인 세척법으로 RCA 섹척과 자연산화제거법을 이용한 HF계 세척 및 건조기술, 드라이에칭후에 형성된 레지스토 잔유물의 제거, 파티클제거에 이용되는 물리세척, 기능수등의 기술에 대하여 설명
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  • 이 작업은 철분말의 무전해니켈 도금의 기술적 타당성을 보여주었다. 도금된 분말은 높은수준의 균질성을 나타내며 소결된 콤팩트는 우수한 기계적 특성을 가지고 있다. 분...
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