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Gyoji Suzuki 1건
공업계에 있어서 에칭 기술의 조망
Recent development in etching technology
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분류
에칭액 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.17
에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
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전자장비의 도금에서는 배선기판의 표면조화는 유전손실 특성이 저하 또한 도금막의 표면의 요철이 커지기 때문에 와이어본딩 성이나 광택 빛 반사가 높지등 문제가 생긴다....
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전기 아연도금 강판 성형성의 기본적 데이타를 얻을 목적으로, 시판 판재의 아연도금 두께 10 μm 이하의 엷은 두께에서 두꺼운 두께로 도금된 재료의 여러 성질을 조사 [電...
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뛰어난 내식성, 내크롬용출성 및 페인트 도장성을 가진 크로메이트 도막은 (1) Cr6+ 및 Cr3+ 이온으로 이루어진 무기 성분, (2) 왁소, 유기 플루오르 화합물 및/또는 중합성...
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특정 도금 조건에서 태양광 PV 전지에 무전해 구리도금에 대한 포괄적인 실험연구가 이 논문에서 수행되고 보고되었다. pH, 온도, 계면활성제 농도의 영향, 샘플 표면의 활...