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검색글 금속학회지 89건
펄스전류를 이용한 표면처리
Electrodeposition woth pulsed curent

등록 2008.09.10 ⋅ 59회 인용

출처 대한금속학회지, 11권 1호 1996년, 한글 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.09
펄스도금에서 가장 특징인 물질 이동과정 및 전석형태에 영향을 주는 전석핵의 발생, 성장에 있어서의 기초적인 해설과 도금막형태에 미치는 펄스 각 인자의 영향에 관하여 서술
  • 플래시 도금 · Flash Plating 극히 짧은시간에 도금하는 얇은 도금으로 구리ㆍ황동 등의 모형으로 [전주도금]을 위하여 모재와의 박리를 쉽게 하는 도금 [마이크로포러스크...
  • Pt (NO2)2-4 가 메탄 설폰산에 용해되면 아질산염 이온이 물 리간드로 대체되고 리간드치환 정도는 온도, 열처리시간 및 산농도에 따라 달라진다. 최종 아질산염 리간드는 ...
  • 디에틸렌 디아민, 시아노 에틸 글리신 또는 시아노 에틸 수크로스와 같은 아민, 수산화나트륨 또는 칼륨과 같은 아민, 라우릴 사코신산, 에틸렌 옥사이드 축합물, 나트륨 또...
  • 아연피막은 온도와 산화제 착화제가 첨가제 3가크롬액의 변조에 따라 또다른 pH 범위에서 부동태 된다. 50 g/l NaCl 용액 시험에서 아연피막의 부식저항의 공정변추를 시험...
  • 다이아몬드 표면에 티타늄 Ti 를 도금하는 새로운 방법을 제시하였다. 먼저 다이아몬드 표면에 니켈-텅스텐-인 Ni-WP 의 얇은 피막을 3~5 분 동안 도금한 다음 2~3 μm Ti 를...