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무전해 니켈 석출의 억제에 관련된 탈륨 및 납의 저전위 석출의 방사성 추적 및 전기화학 연구
Radiotracer and Electrochemical Studies of the Underpotential Deposition of Thallium and Lead in Relation to the Inhibition of Electroless Nickel Deposition

등록 2022.02.10 ⋅ 29회 인용

출처 전기화학, 46권 7호 1978년, 영어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.11
무전해 니켈 도금욕에서 금속성 혼합의 억제를 설명하기위한 시도에서, 소재상에 탈륨 또는 납의 첨가제 석출은 착화제를 함유하는 알칼리성 용액에서의 전기 화학적 방법을 통해 연구하였다.
  • 포름산을 사용하는 팔라듐-에틸디아민 착화조에서 무전해 순수 팔라듐도금에 대한 도금조건을 논의하고 이 기술을 다른 전자부품에 대하여 적응성을 평가하였다.
  • 아연계 합금도금의 가동현황에 관한 조사결과로, 도금용량과 채용회사의 추이, 지역별의 가동현황, 도금방식별 용량, 크로메이트처리의 방법, 아연계 합금도금의 가동시간등...
  • 무전해 구리도금조는 안정화제로 사용되는 금속-시아노-복합체와 금속-시아노-복합체의 금속을 착화제를 모두 구리이온이 함유된 구리도금조에 첨가하여 준비한다. 이온 및 ...
  • 도금액중의 착화제의 종류를 변화하여, 부도체 및 도체상의 도금 초기석출형태를 전계방사형주사전자현미경 FE-SEM 으로 직접관찰하고, 각종 도금욕의 초기석출과정도 in-si...
  • 알루미늄이 양극산화조에서 처리되면 알루미늄 샘플에 줄열이 발생한다. 양극산화욕이 교반되지 않을때 줄열은 양극산화욕의 자연대류에 의해 확산된다. 그리고 이 열은 벌...