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무전해 니켈 석출의 억제에 관련된 탈륨 및 납의 저전위 석출의 방사성 추적 및 전기화학 연구
Radiotracer and Electrochemical Studies of the Underpotential Deposition of Thallium and Lead in Relation to the Inhibition of Electroless Nickel Deposition

등록 : 2022.02.10 ⋅ 6회 인용

출처 : 전기화학, 46권 7호 1978년, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.11
무전해 니켈 도금욕에서 금속성 혼합의 억제를 설명하기위한 시도에서, 소재상에 탈륨 또는 납의 첨가제 석출은 착화제를 함유하는 알칼리성 용액에서의 전기 화학적 방법을 통해 연구하였다.
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  • 실험 결과는 주석 Sn 도금속도에 대한 TU 및 염산 HCl 농도 및 욕온도의 지배적인 영향을 확인하였다. 만족스럽지 않은 구리 Cu(i) 착화 및 Cu 부동태 효과로 인해 낮은 TU ...