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메탄설폰산 전해질에서 PEG에 의한 구리 전착의 억제
Suppression of Copper Electrodeposition by PEG in Methanesulfonic Acid Electrolytes

등록 : 2022.06.21 ⋅ 45회 인용

출처 : Electrochemical Society, 166권 13호 2019년, 영어 8 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Ryan T. Rooney1) Himendra Jha2) Dirk Rohde3) Ralf Schmidt4) Andrew A. Gewirth⁵)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.07.14
메탄설폰산 (MSA) 구리 Cu 도금욕에서 폴리에틸렌글리콜 (PEG)의 억제 거동을 조사하였다. H2SO4 전해질에서 PEG에 의한 구리 Cu 전착 억제는 Cl-의 존재에서만 발생하는 반면 MSA 전해질에서는 Cl-은 필요하지 않다.
  • 6가 및 3가 크롬욕에 도금된 중간 Cr-C 층의 결정구조, 표면형태 및 결정화에 대한 포름산 및 전류밀도의 영향을 연구하여 크롬-카바이드 형성 거동을 관찰하고 환경보호 Cr...
  • 전체 크롬농도가 21~28 wt % 로 유지되고 있고, 자유 산도가 4.0~4.0 인 크로메이트 처리용액을 아연 도금 강판에 도포하고 소정 온도로 가열하여 건조시킴으로, 상기 아연...
  • 고집적화에 따른 임팩트의 고밀도화, 고신뢰성화, 다기능화의 성능, 기능의 개량 개발과 저비용화, 단납기화, 자동화라는 기업 수준에서 의 프로세스 개량, 재료 개량 개발...
  • 표면 처리 및 전주에서 전착을 광범위한 유체 역학 조건에서 사용할 수 있다.배럴 도금과 같은 일부 도금액의 경우은 제품에 비해 도금액은 고정인 반면 제트 도금에서는 용...
  • 무전해 도금법의 기본적인 특징과 기능, 응용에 관하여, 최근의 연구를 중심으로 해설하고, 약간의 장래전망에 관하여서도 설명