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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.12.12
습식도금법의 일렉트로닉스 분야의 응용에 관하여, 반도체배선형성기술, 프린트배선판제조기술, 실장기술 및 광파이버상의 금속피막에 관하여 설명
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구리와 주석은 주석산염의 존재 및 부재하에 1.0 M 황산도금조에서 백금소재에 전착되었다. Voltammetric 곡선은 -0.310 및 -0.640 V 에서 두 가지 도금공정을 나타내며, 도...
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니켈-붕소 Ni-B 도금막의 경질화로 디메틸보란아민 (DMAB) 을 환원제로한 무전해 Ni-B 도금욕에 알키닌을 첨가하여 만든 도금막의 열처리전후의 경도에 있어서 첨가영향에 ...
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로딥 ZnX 공정은 아연-니켈, 아연-철 및 아연-철-코발트 합금도금상의 무지개색 피막을 형성시키기 위해 사용하는 3가 크로메이트제이다. 로딥 ZnX는 1액형의 액상으로 사용...
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니켈-인산염/붕소(Ni-P/B) 무전해 피막은 자동차, 항공우주, 화학 처리, 식품, 석유 및 가스, 전자, 섬유 및 인쇄를 포함한 다양한 산업 응용 분야에서 물리적 및 기계적 특...
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황산욕을 이용하여 아연-코발트 Zn-Co 합금도금을 하고, 얻은 피막의 합금조성, 표면형태, 결정구조와 내식성등의 관계를 조사