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검색글 L.G. Bhatgadde 3건
단일 마이크로 직접회로(MMIC)의 티오황산-황화물 금 Au 전기도금 공정
A Thiosulfate-Sulfite Gold Electroplating Process for Monolithic Microwave Integrated Circuits (MMICs)

등록 2023.01.29 ⋅ 186회 인용

출처 na, na, 영어 5 쪽

분류 연구

자료

저자

기타

Advanced Centre for Research in Electronics
Indian Institute of Technology

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.05.07
군사, 항공 우주 및 위성 통신 시스템에서 GaAs 및 InP와 같은 금도금 MMIC 기판의 적용은 잘 확립되어 있다. 증발/스퍼터링에 의한 Cr/Au 또는 Ti/Au 전착의 초기 박막 후 기판은 KAuCN2/NaAuCN2를 포함하는 도금액에서 금도금된다. 오염 물질인 것 외에도 이러한 액은 전도성 패턴을 묘사하는 데 사용되는 포지티브 포토레...
  • 기존의 구리, 니켈 및 크롬 도금을 수행하는 금속 표면처리 공장은 파괴/폐기물 침전처리 대신 화학 물질 회수 시스템을 설치하기로 결정하였다. 각각의 도금 수세에 대한 ...
  • 금속 표면 기술 또는 그와 관련하여, 에칭이라는 용어는 일상적으로 사용되지만, 그 정의는 반드시 명확하지 않다. 알루마이트의 전처리로서의 알칼리 에칭과 IC 회로 제조...
  • 크롬 도금의 규불화소다 분석법 ^ Analysis of Sodium Silicofluoride in Chrome Plating Solution 이온 메타법 먼저 불소를 크롬산 용액에 첨가하여 표준 불소 도금액을 만...
  • 금 Au 도금 피막의 개량에 관한 관점으로, 금-팔라듐 합금도금에 관한 보고로 팔라듐을 에틸렌아민과 착화로 하여, 그 용액에서 금-팔라듐 합금도금의 가능성과 전해조건에 ...
  • 일렉트로 폼은 전착금속으로 완전히 구성된 독립된 독립체입니다. ASTM 위원회 B8 에 의해 채택된 표준정의는 "전기 주조는 이후에 석출로부터 분리되는 맨드릴 또는 주형에...