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페놀설폰산욕에 의한 HCD 전기도금 연구
Study of HCD Electroplating By Phenolsulfonic Acid Baths

등록 : 2023.08.11 ⋅ 39회 인용

출처 : PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1997, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.06
메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다. 전해조 내 주석 이...
  • 흑염처리 · Blackening 진한 [가성소다] 35~45 % 용액에 산화제 · 반응촉진제 또는 염료 등을 가하여, 140 ℃ 전후로 가열된 용액에 철강재를 넣으면 표면에 0.2~5 ㎛ 두께의...
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  • PCB 무전해구리도금 (차아인산소다를 환원제로한) L-아르긴산 무전해구리 도금의 거동을 SEM, 선형분극 및 AC 임피던스 시험으로 연구하였다. 적당한 량의 L-아르기닌은...