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구리 산화막의 밀착성과 막구조
Adhesion and structure of copper oxide films

등록 : 2010.05.31 ⋅ 78회 인용

출처 : 회로실장학회지, 11권 6호 1996년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

銅 酸化膜の密着性 と膜構 造

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2018.01.10
밀착성에 영향을 주는 인자로서, 합금조성과 표면형태를 기본으로, 순수구리와 각종 구리합금에 관하여 산화막의 박리시험, X선(XDR), 주사전자현미경(SEM), 투과전자현미경(TEM) 및 오제전자분광법(AES)에 의한 구조해석을 하고, 산화막의 밀착성향상을 위한 연구

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