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차세대 기판 도금을 위한 새로운 무포름알데히드 무전해 구리
Novel formaldehyde-free electroless copper for plating on next generation substrates

등록 2023.08.15 ⋅ 62회 인용

출처 IMAPS, 2018, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Christian Wendeln1) Edith Steinhäuser2) Lutz Stamp3) Bexy Dosse-Gomez4) Elisa Langhammer6) Sebastian Reiber7) Sebastian Dünnebeil8 Sandra Röseler9)

기타

51st International Symposium on Microelectronics

자료

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.16
광범위한 용도로 사용할 수 있는 새로운 유형의 포름알데히드가 없는 무전해 구리 도금액에 대하여 설명하였다. 공정 성능의 손실 없이 기존 포름알데히드를 대체하여 인쇄 회로 기판(PCB) 생산 산업에 대한 지속 가능한 "녹색" 대안을 제공한다.
  • 메커 프로세스 · Mecker Process 스웨덴 Sigma Innovation A/B 사가 개발한 [인쇄회로|프린트 배선판]의 Cu 박막을 알칼리 (암모니아) 계 [에칭]액을 재생하는 장치이다. Cu...
  • 무전해 도금(Cu+Sn)시 용수의 수질관련 기준(?) 같은게 따로 정해진 게 있나요? 즉. 최상의 도금을 위한 도금욕 수질은 어느 정도 되어야 하는지 궁금합니다.
  • 구리 전기도금 시스템은 반도체 웨이퍼에 구리를 전착하는 데 사용된다. 산성 구리 도금의 주요한 욕구성 요소는 황산구리, 황산, 염화물 이다. 독점적인 억제 첨가제가 구...
  • 수용액에서 납의 표준 전위는 0.12 V 이다. 이 금속은 수소 과전위가 높기 때문에 100 % 에 가까운 음극 효율을 가진 강산성 용액에서 쉽게 전착된다. 수소 과전위 값은 전...
  • 무전해도금욕의 구성성분은 주성분으로서 금속염과 환원제가 필수이며, 보조제로 착화제, pH 조정제, 안정제등을 포함한 복잡한 배합용액으로, 각 성분의 종류-농도-욕...