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인쇄회로기판용 홀 금속화 기술 연구 진행
Research progress in hole metallization technology for printed circuit boards

등록 2023.12.24 ⋅ 90회 인용

출처 Plating and Finishing, 45권 12호 2023년, 중국어 6 쪽

분류 연구

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기타

印制线路板的孔金属化技术的研究进展

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.17
인쇄회로 기판의 금속화 공정은 무전해 구리도금 공정을 통해 이루어지고 있으나 이 처리 공정은 복잡하고 번거로우며 활성화를 위해 귀금속을 사용하고, 환원제로 발암성 포름알데히드를 사용한다. 인쇄회로 기판의 업그레이드 및 개발에 있어서 표면 처리에 대한 높은 요구 사항을 더 이상 충족시킬 수 없는 단점...
  • 무전해 니켈도금의 공업적 이용 가치를 높이고 무전해 니켈 도금의 효용을 올리고자 무전해 니켈 도금액 제조에 중점을 두었고 도금액에 첨가되는 복합제인 유기산에 따른 ...
  • 시안화금 · Gold Cyanide [시안화제1금] (AuCN)과 [시안화제2금] Au(CN)3 으로 나누어진다. 시안화제1금 시안화제1금은 황색 육방장계 미세정으로 물에 녹지 않으며, 암모니...
  • 반도체 배수처리기술로서 개발하여, 축적된 침지형 평막에 의한 저압막 여과기술과 화학적 배수처리 기술을 하이브릿드화한 불산 폐수의 처리 리사이클 시스템에 관한 보고
  • 착색 피막 처리 기술은 일약성 자원 시대의 중요한 위치를 만들 가능성이 높아져 왔으며, 본래의 장식 목적으로는 이용 범위는 다양하지만 양적으로 미미하다. 스테인레스 ...
  • 고광도의 매끄러운 구리도금을 생성하는데 사용되는 광택제를 포함하는 산성 구리도금조의 경우, 도금조에 광택제를 첨가한후 일반적으로 필요한 "브레이크 인" 기간이 본발...