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인쇄회로기판용 홀 금속화 기술 연구 진행
Research progress in hole metallization technology for printed circuit boards

등록 : 2023.12.24 ⋅ 21회 인용

출처 : Plating and Finishing, 45권 12호 2023년, 중국어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

印制线路板的孔金属化技术的研究进展

자료 :

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.17
인쇄회로 기판의 금속화 공정은 무전해 구리도금 공정을 통해 이루어지고 있으나 이 처리 공정은 복잡하고 번거로우며 활성화를 위해 귀금속을 사용하고, 환원제로 발암성 포름알데히드를 사용한다. 인쇄회로 기판의 업그레이드 및 개발에 있어서 표면 처리에 대한 높은 요구 사항을 더 이상 충족시킬 수 없는 단점...
  • 금 Au 및 금 Au 합금도금액 및 도금방법, 도금기술에 관하여 관리포인트 등에 관한 해설
  • 에칭액으로 여러종류의 물리 화학적인 변화를 추구하여, 종래에 알려지지 않은 에칭에의한 수지의 거동을 맑히고 밀착성에 관한 지식을 습득
  • 한정된 유효량의 구리이온, 구리이온용 착화제, 도금액안정화 및 완충제, 수산기 및/또는 수소이온을 포함하는 전해질을 사용하여 전도성 소재에 연성, 미세입자의 밀착성 ...
  • 미세패턴 비아필링용 황산구리 첨가제 Acid copper plating additive for Via-filling applicable to Fine Pattern
  • 전석 니켈-인 Ni-P 합금의 조성과 전석조건, 특히 와트욕을 중심으로 아인산 첨가량 및 전석 전류밀도의 영향을 조사하고, 만든 전석 Ni-P 합금의 결정구조, 다면의 조직, ...