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칩 제조에 있어서 구리 전기도금 첨가제의 연구 진행
Research Progress of the Copper Electroplating Additives in Chip Manufacturing

등록 : 2023.12.24 ⋅ 6회 인용

출처 : 44권 2호 2022년, Plating and Finishing, 중국어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

芯片电镀铜添加剂的研究进展

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.24
첨가제는 핀홀이 없는 충전을 달성하기 위한 칩 구리 전기도금 공정에서 없어서는 안 될 부분이다. 전기도금 용액의 구성은 복잡하며 전기도금 공정에서 촉진제, 억제제, 레벨러와 같은 다양한 첨가제의 시너지 메커니즘을 더욱 명확히 할 필요가 있다. 칩용 구리 전기도금 첨가제의 반응 메커니즘을 밝히기 위해 국내외 관...
  • 졸겔 Sol-Gel 졸겔법은 1960년대 독일의 "쇼트" 사가 반사방지 코팅을 실용화하면서 산업계에 알려졌다. 상온 또는 저온에서 금속염이나 금속 알콕사이드|1|와 같은 전구체...
  • 콜로이드형의 수산화물 형태가 쉬운 유해원소의 공침제로 이용되는 알루미늄 이온이 니켈도금막의 잔류응력형성에 주는 영향에 관하여 검토
  • 기계적 마무리는 알루미늄의 다양한 표면 질감을 제공하기 위해 사용될 수있다. 광택선택의 경우 표면 흠집, 롤 마크 및 다이 라인을 제거하기 위해 버핑이 필요하므로 표면...
  • 소재의 티타늄 함유 표면에 구리를 도금하는 방법이 제공 된다. 방법은 소재위에 패턴화된 촉매 물질을 형성하여 티타늄 함유 표면이 선택된 영역에 노출되도록 하는 것을 ...
  • 무전해 구리도금의 용제로서 1-에틸메텔 이미다조륨 붕불산 이온액의 효과를 연구하였다. 이온액의 첨가가 증가하면 결정입자와 구리석출 비율이 감소하고 저항성을 증가하...