로그인

검색

검색글 IST 317건
산성 무전해 니켈-인 도금의 동역학과 메커니즘
Kinetics and Mechanism of Acidic Electroless Ni-P Plating

등록 2024.01.13 ⋅ 57회 인용

출처 Electrochemistry, 20rnjs 6gh 2014sus, 중국어 6 쪽

분류

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.01.13
세 가지 용액 (음극액, 양극액 및 완전 도금 용액) 의 무전해 니켈 도금의 석출 속도에 대한 도금욕의 pH와 시스템 온도의 영향를 측정하였다.
  • 아노드 분극곡선의 측정에 따라 각각 pH의 수용액중에 있어서 아연의 아노드 용해반응의 특징을 정리하고, 아노드 반응에 관한 반응 파라미터를 구하였다
  • 산성(암모늄) 아연도금액 분석 ^ Acid Zinc (Ammonium) Plating Bath Analysis 금속아연 (Zn) 도금액 1 ㎖ 를 취한후 순수 약 100 ㎖ 를 가한다 염화암모늄 (NH4Cl) 완충액 ...
  • 펄스도금 ^ Pulse Current Plating 일반도금에서는 직류전원을 이용하는 전통방식이 이용된다. 최근에는 직류와 펄스를 혼합한 도금, PPR도금ㆍPR도금ㆍ펄스도금 등의 비직...
  • 아졸을 가진 실란 커플링제 예컨대 이미다졸과 γ 글리시독시 프로필트리알콕시 실란과의 등몰 반응생성물인 커플링제의 유기산염과 귀금속화합물을 미리 혼합 또는 반응시킨...
  • Quarts-crystal microbalance법 (이하 QCM) 을 이용하여, 여러 도금욕 조성 및 조작조건에 있어서, 금속의 석출량을 연속적으로 측정하여, 팔라듐 박막의 성장속도와 석출형...