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검색글 Julieta Torres González 1건
옥살산염 및 아세트산 음이온이 존재하는 Cr(III) 용액의 크롬 전착에 관한 연구
Study on the Electrodeposition of Chromium from Cr(III) Solution in the Presence of Oxalate and Acetate Anions

등록 2024.03.01 ⋅ 129회 인용

출처 Electrochem. Sci., 15권 2020년, 영어 17 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.03.14
옥살산염과 아세테이트 음이온의 조합을 기반으로 크롬(III) 도금욕을 평가하기 위해 헐셀 (HullCell) 을 사용하였다. 도금욕은 황산 크롬(III), 옥살산 암모늄, 아세트산 나트륨, 붕산, 황산 칼륨, 황산 나트륨 및 SDS (도데실 황산 나트륨) 가 포함되어 있다. pH는 3.5 였으며 모든 종은 양성자화되었다. 크롬(III) 도...
  • 도금액의 작업조건 관리 ^ Plating Baths Working Condition 도금 도금 종류 ㏗ 전압 V 전류밀도 A/dm2 액온 ℃ 황동 시안화욕 11.5~13.6 2~3 3.0~0.5 30~40 카드뮴 시안...
  • 폐수 처리의 관점에서 불소에 대한 제거효율을 검토하고자 볼소가 고농도로 존재할경우에 대한 연구를 진행하고, 불소와 인산염이 혼합되어 있는 상황에서 불소의 제거율에 ...
  • 이 내용은 1998년 4월부터 수회에 걸쳐 한국표면처리공업신문(현 표면처리저널)에 연재된 내용입니다. 가급적 게제된 내용 그대로 정리하였으나, 잘못된 부분은 최근의 기술...
  • 최근의 일렉트로닉스 단결정재료의 주역인 실리콘웨이퍼의 화학적 기계연마 기술과 요구되는 품질에 관하여 간단한 소개와 현황의 기술적과제에 관하여 설명
  • 최근 도금연구는 용액속의 이온과 전착물의 중성원자가 석출될때까지 전기화학에 의한 도금과학의 이론을 연구하고 있지만, 형성된 막의 결정구조는 결정학이며 고체의 열역...