아황산염과 티오황산을 착화제로, 아스콜빈산을 환원제로 하는 시안화물이 없는 무전해금도금 욕은 1989 에 처음 기술된 이래 안정성과 도금속도가 크게 향상되었다. 개선은 주로 적절한 도금액 첨가제를 통합하여 이루어졌다. 개선으로 이어진 화학 및 전기화학 조사의 결과를 논의하였다.
Stephen Gaydos / Boeing ? St. Louis HCAT/JCAT Meeting / January 24, 2007 ? Key Attributes for Cadmium Plating Alternatives: ? Drop-In Replacement ? Sacrificial t...