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포토 일렉트로포밍
Photo-Electroforming

등록 2010.01.14 ⋅ 33회 인용

출처 실무표면기술, 35권 8호 1988년, 일어 6 쪽

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フォトエレクトロフォ-ミング

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.08.10
포토일렉트로포밍의 각 공정의 설명과, 이 방법으로 만든 정밀부품의 실제 가공예와 가공정밀도등에 관한 설명
  • 실리콘 태양전지 소재에 무전해도금을 이용하여 니켈-텅스텐-인 Ni-W-P 박막을 형성하였다. 도금욕의 온도와 시간에 따라 전착 조건을 확립하고. 또한 열처리 공정을 이...
  • 크롬산 (무수크롬산) ^ 6-Valent Chromium 6가이온을 함유한 크롬으로 강한 산화제로 작용하며, [3가크롬]에 비하여 독성이 강해 유해물질로 지정되어 있다. [크롬산] 참고 ...
  • Qualitative Approach to Pulse Plating 1. Introduction 화학적인 합성에 대조적으로 전해에서는 누구나 주어진 전류밀도를 조작하여 시스템의 반응속도를 제어할 수 있고,...
  • 디에틸아미노프로핀 ^ Diethylaminopropyne 첨가량 : 0.01~0.2 ㎖/L 용도 : [니켈도금]용 광택 및 레베링제 [DEP] 참고 [니켈도금광택제]
  • 탄소섬유를 이용한 고분자 복합재료(CFRP)에서 섬유와 매트릭스간의 계면 결합력을 증가시키기 위하여 탄소섬유에 니켈 도금 처리한 고강도 탄소섬유의 제조방법에 관한 것...