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반도체 가공처리액의 조성분석
NA

등록 : 2010.04.29 ⋅ 60회 인용

출처 : na, NA, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体加工処理液の組成分析

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.18
CMP 슬러리의 성분 분석에 대해 소개하고, 무기물이 많은 유기물 분석으로 더 난이도가 높은 구리도금액의 조성분석에 주로 전처리법을 중심으로 소개한다. 1. CMP 슬러리의 조성분석 2. 동 도금액의 조성분석
  • 단일물질에서 얻은 어려운 특징을 다른 물질을 첨가하여 분산 공석에 이한 복합도금 기술은, 최근에 화제의 하나이다. 그 응용은 주로 고체 접촉에 수반 마찰계수의 저...
  • 도금을 하면 다소의 두께가 생기며, 이로써 소지 금속층이 속박이 되면서 도금층이 수축하느냐 팽창하느냐에 따라 인장 (tensil) 또는 압축(compressive) 의 힘이 생긴다. ...
  • 니켈-철도금은 비정상도금(anomalous codeposition)의 양상을 나타내기 때문에 도금층의 조성과 미세구조가 실험 변수에 따라 민감하게 변화하는특징을 갖고있다. 첨가제나 ...
  • 알칼리 징케이트 전기도금용 광택제, 시안화물 또는 비시안화물 도금액을 공개하였다. 광택제는 알킬렌아민의 반복 단위를 특징으로하는 중합체이며, 여기서 질소원자는 화...
  • 제가 원래 이쪽계통 전공이 아닌데, 어찌하다보니 표면처리부문에 발을 들여 실험에 매진하고있습니다. 제가 담당하는 것은 산성아연도금액 부분입니다. 그런데 약품 실험중...