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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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광택도금에 있어서 광택화기구의 원자적인 생각
Atomic thinking of polishing mechanism in gloss plating

등록 2011.09.26 ⋅ 38회 인용

출처 실무표면기술, 21권 3호 1974년, 일어 6 쪽

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기타

光沢メッキにおける光沢化機構の原子的な見方

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.19
광택제 또는 광택도금의 광택기구에 관하여 금속광택은 무엇이며, 광택제의 입체화학구조와 확산 흡착의 과정, 레베링이 일어나기 쉬운조건등에 관하여 설명
  • 최근의 전자기기관계에서의 표면처리 및 이와 관련된 화학기술의 사용도는 단순한 방세, 장식에서 석출되는 금속의 특성을 활용하거나, 이러한 기술을 부품 제작 수단으로 ...
  • 각종금속을 모두 유화물로 스러지로서 분리할때는 제련원료로서는 충분하나, 고 경제가치를 요구하는 순도가 높은 금속회수가 이상적이다. 따라서 분별된 농후 도금폐액에서...
  • 1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 ...
  • 반도체 산업에서 구리의 전착은 농도가 도금된 구리필름의 금속 인터커넥트를 위한 적절한 첨가제 감지 가능한 보이드가 없는 트렌치 및 비아 특성에 상당한 영향을 미치는 ...
  • 아연 도금 위스커의 발생 요인으로는 내부 응력설이나 결정 전이설, 수소 흡장설 등이 제안되고 있다. 이러한 가운데 유력하게 되는 내부응력설에 대해 탄소공석과의 관련으...