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무전해니켈 도금막중의 크러스터 다이아몬드 미립자의 공석
Co-deposition of Cluster diamond into electrolessly plated nickel films

등록 2008.07.31 ⋅ 66회 인용

출처 표면기술, 54권 5호 2003년, 일어 2 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Hiroshi MATSUBARA1) Hisashi TAZAWA2) Nobuo SAITO3) Hiroshi NISHYAMA4) Yasunobu INOUE 5) Masao MAYUZUMI 6)

기타

無電解ニッケルめっき膜中へのクラスターダイヤモンド微粒子の共析

자료

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
무전해도금 막중의 크러스터-다이아몬드 공석량을 증가하기 위한 기초 데이타를 만들 목적으로, 무전해니켈도금을 예로 검토한 결과 보고
  • 고규소 스테인리스강에 유동층을 사용한 붕소화 처리를 하고, 표면층의 생성된 붕화층의 경도, 고온경화 및 대기중의 건조형태의 마찰마모특성을 검토
  • 표면연마와 경면연마를 대표적으로한 래핑과 폴리싱에 관한 가공기술의 기초와 최신동향을 설명
  • 아연과 카드뮴외 니켈, 주석, 실버, 티타늄, 마그네슘이 있으며, 그 밖에 널리 이용되는 아름다운 색깔있는 알루미늄이 있다. 따라서 궁극적으로 알루미늄을 설명하려고 하...
  • 에칭기술은 그 목적에 따라 여러가지 처리조건과 방법이 이용되고 있다. 예로부터 에칭에 대하여, 포토에칭과 드라이에칭등의 기술이 급속히 발전되었으며, 이들 기술을 조망
  • 기계적 특성이 우수한 다층 구리도금 피막을 갖는 인쇄회로 기판은 다음 단계의 적어도 하나의 시퀀스를 포함하는 무전해 구리도금 공정에 의해 얻어진다.