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수정 마이크로발란스법에 의한 무전해구리 도금에 있어서 국부반응의 해석
Aanalysis of partial reactions in electroless copper deposition by quartz crystal microbalance technique

등록 : 2008.07.31 ⋅ 33회 인용

출처 : 표면기술, 43권 5호 1992년, 일본어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.22
도금욕의 pH 조정에 사용하는 알칼리 금속이온의 종류에 따라 혼성전위의 경시변화가 다른점을 국부 반응간에 있어서 상호작용의 관점에서 이해하고, 수정 마이크로발란스 전극을 이용한 구리이온 및 포름알데하이드가 공존하는 실제의 도금욕에 있어서 외분 분극곡선과 국부 캐소드 분극고선의 동시측정을 실험함
  • 염소산칼륨 촉진형 인산염 피막욕으로 형성된 피막의 성장을 종래의 질산염을 촉진제로한 처리피막과 비교검토하였다.
  • HM
    HM ^ Sodium Hydroxy methylene sulfonate CH3 Na O4 S = 134.1 g/㏖ CAS : 870-72-4 성상 : 무색~황색의 액상 ㏗ : 4.5~6 순도 : 24.0~28.0 % [니켈도금]용 구리·아연·납 ...
  • 금속 서브 트레이트에 크롬도금을 제공하기 위한 개선된 방법 및 개선된 전해액
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  • 베리어형 양극산화 피막에 관한 해설과 양극산화의 역사에 관하 설명을 병용하여 해석하며, 포러스 피막을 이용한 나노 테크로지에 관한 연구를 소개