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검색글 Hideo Honma 30건
각종기재에 평활회로를 형성하기 위한 도금 프로세스
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등록 : 2012.11.08 ⋅ 11회 인용

출처 : 표면실장기술, 3호 2011년, 한글 6 쪽

분류 :

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Journal of Japan Institute of Electronics Packaging 번역

자료 :

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.22
각종기재에 평활회로를 형성하기 위한 도금 프로세스로, UV 조사에 의한 소재의 표면개질위에 고밀착 평활회로를 형성하는 기술과 관련해 폴리이미드, 액정폴리머, 우수한 유전특성을 갖는 시클로올레핀 폴리머를 예로 들어 설명한다
  • Ziniloy 는 알카리 아연-니켈(12~15%) 합금도금으로, 종래의 방식과비교하여 , 적은 수의 첨가제관리로 우수한 내식성의 도금이 가능합니다. 도금피막은 응력이 매우 낮으며...
  • KLP1000은 욕의 안정성이 뛰어난 초저인 타입의 중성 무전해니켈 도금 욕입니다. 또한 저응력, 낮은 전기 저항과 뛰어난 납땜성을 갖추고 있기 때문에 여러가지 용도로 사용...
  • 1차전류분포와 2차전류분포는 무얼 말하는지, 도금피막중의 흡장수소, 내부응력 밀착성 피막의 경도 강도등의 문제점을 설명
  • 전자 커넥터 도금 애플리케이션을 위한 모든 시안화물 화합물 (PGC 포함)이 없는 도금 공정 화학을 공식화하는 것과 관련된 문제를 설명하였다. 여러 다른 전해질에 대한 연...
  • 니켈 Ni 은 우수한 화학적 및 물리적 특성으로 균일한 도금을 제공하는 무전해도금에 의해 금속표면과 비금속표면에 도금할수 있다. 도금에 인 (P) 첨가는 산소결손의 수를 ...