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무전해도금 방법 및 광 푸로브
NA

등록 : 2008.08.02 ⋅ 41회 인용

출처 : 일본특허, 2004-84013, 일어 10 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.09
사이즈 의존 무전해도금의 선택성을 서브미크론에서 나노미터 오다의 범위까지 제어가 가능하며, 100 nm 이하의 개구부 직경을 선철부선단이 쉽게 형성하는 광 푸로브를 제공 [無電解めっき方法及び光プローブ] 일본특허 特願2002-247395 / 物部 秀二 , 独立行政法人 科学技術振興機構
  • BBI
    BBIㆍBBSI ^ Bis(Benzene sulphonyl)-imide ^ N-(phenylsulfonyl)-benzensulfonamide C12H11O4NS2 = g/㏖ CAS : 1618-96-4 형상 : 백색~황색의 결정 분말 순도 : > 90 % ㏗ ...
  • As, Cd 또는 Pb 등의 유해 중금속에 오염된 토양등으로 부터 이러한 유해 중금속을 효율적으로 흡착, 제거할수 있는 중금속제거제를 제공하는 것을 과제로 한다. 또한 이러...
  • 황산이 크롬산과 반응하여 황산크롬을 생성한다는 이론에 따라 전류밀도, 욕온도 및 크롬도금의 전류효율에 영향을 미치는 기타 요인에 대해 설명하였다. 유기설폰산 및 셀...
  • 주석-연 합금도금 ^ Tin-Lead Alloy Plating [주석납합금도금|주석-납(연) 합금도금] 참고 [합금도금] [주석합금도금|주석 합금도금]
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