로그인

검색

검색글 11092건
나노구조/기능 디바이스 형성을 위한 전해/무전해 프로세스
Electrochemical and electroless deposition processes for fabrication of Nano structures and devices

등록 2008.08.02 ⋅ 42회 인용

출처 표면기술, 53권 12호 2002년, 일어 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.17
나노구조 형성방법으로 전해/무전해 공정의 특징과 실제예를 소개하고, 고밀도 실장기술과 다마신 프로세스, MEMS 관련기술에 관하여 다양한 설명
  • 메카니칼 도금 ^ Mechanical Plating 1950년대 미국의 3M 사가 개발한 냉간압점에 의한 충격도금이다. 일반적으로 아연 ㆍ주석ㆍ카드뮴ㆍ납ㆍ구리ㆍ구리-아연ㆍ주석-카드뮴 ...
  • 인산아연 피막처리 ^ Zinc Phosphate Treatment 인산아연처리는 강판 등의 방청처리와 도장하처리에 이용된다. 처리후 각종 윤할제와 병용에 의하여 변성가공 하지처리에도 ...
  • 전기화학적 양극산화법에 의해 생성되는 광촉매용 산화티타늄의 산화과정시 산화피막의 성장과 더불어 나타나는 표면현상과 피막두게, 기공성 셀의 변화등 산화피막의 ...
  • 퍼프 연마로 대표되는 기계 공작의 대체를 목적으로 소프트 에칭 회로 형성 전처리 솔더 레지스트 도포 전처리에 적용에 대해 검토 하였다. 실제로 스루홀 양면판을 제작함...
  • 니켈도금은 1830 년대에 개발되어 일본은 100 년 이전에 사용한 도금으로, 최근에는 첨산분야 (MEMS 용도 등..) 에 적용되고 있다.