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비 포름알데하이드 무전해구리 도금의 가속화
The Acceleration of Nonformaldehyde Electroless Copper Plating

등록 2013.01.11 ⋅ 42회 인용

출처 Electrochemical Society, 149권 12호 2002년, 영어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.21
비 포름알데하이드의 낮은 pH (고 알칼리욕과 비교하여) 무전해구리도금을 조사하었다. 티오우레아 및 이의 유도체는 착화제로서 HEDTA (N-2하이드록시 에틸 (에틸렌디아민 트리아세트산 삼나트륨염 수화물) 및 차아인산소다을 사용한 무전해구리 도금액의 도금속도를 증가시키는 것으로 나타났으며, 1.0 ppm 의 티...
  • 에틸렌디아민 테트라아세트산 (EDTA) 및 트리에탄올아민 (TEA) 이 착화제로서 팔라듐 및 구리 전극에 대한 제2구리 이온의 전기화학적 환원 및 포름알데히드 산화에 미치는 ...
  • 일부 새로운 N,N'-비피라졸 피페라진 유도체, 즉 피페라진(P1), N,N'-비스 [(3,5-디메틸-1H-피라졸-1일)메틸] 에 의한 1M 염산 용액에서 연강의 부식 억제 피페라진(P2) 및 ...
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  • 무전해 은도금욕 ^ Electroless Silver Plating Bath 실험 조성 |1| 7.5 g/l 질산은 75 g/l 암모니아수 105 g/l 티오황산소다 온도 실온 구리 또는 구리합금에 적합하며, 액...
  • 인쇄회로 기판 제조공정은 공정 세정수의 최적 처리를 위해 특정과제를 제시하였다. 이 산업은 대형 컴퓨터회사에서 일부 매우작은 프로토 타입 서비스에 이르기까지 다양한...