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전기구리도금 제어조에 있어서 전류밀도분포추정법
An estimation method of current density distribution for copper electroplating control cell

등록 : 2013.03.04 ⋅ 30회 인용

출처 : 표면기술, 63권 8호 2012년, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.12.12
도금조내의 전위역분석에 의한 전류밀도분초추정법과, 전기구리도금 제어조에 대하여, 본 추정방법을 적용한 결과를 소개

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