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무전해 NiB 도금에 있어서 착화제의 영향
Effect of complexing agents on electroless NiB plating

등록 2008.08.09 ⋅ 71회 인용

출처 표면기술, 48권 11호 1997년, 일본어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.06
착화제로 구연산소다, 마론산소다, 글리신 및 에틸렌디아민을 사용하여, 각각의 착화제가 피막조성 및 구조에 주는 영향에 관하여 체계적으로 검토
  • 안정한 카복실레이트의 예로는 아세트산, 프로피온산, 클로로 아세트산, 트리클로로 아세트산, 석신산, 설포아세트산, 벤조산, 피콜린산 및 니코틴산이 있다. 광택 크롬도금...
  • 광택 니켈도금에 사용되는 욕의 주성분의 조성은 수십년간 광택니켈의 일반적인 문제는 보통욕으로 염화암모늄이 사용된 도금욕은 사카린, 나프탈렌 설폰산소다, 에틸렌 시...
  • 흡광광도계 ^ UV ㆍ VIS Spectrophotometer 원자나 분자가 외부에서 에너지를 받으면 여러 가지 현상을 일으키는데, 이때 에너지의 크기에 따라 그 현상은 다르며 보통 빛이...
  • 환경공격으로 부터 보호하기 위해 아연-철 합금 전착을 하였다. 비시안화 도금액으로 황산염욕이 개발되었다. 도금욕을 최적화하기 위해 전류효율, 침투력 및 헐셀 연구를 ...
  • 각종 유기산욕을 이용하고, 붕산을 사용하지 않는 전기니켈 Ni 도금에 있어서 고속화의 가능성에 관하여 조사하고, 최대전류 밀도 90 A/dm2 의 도금욕에 관한 연구보고