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검색글 Shozo MIZUMOTO 24건
미소 비아홀의 무전해 구리도금의 균일석출성
Mechanical properties and eliability of copper films deposited from electroless plating baths containg Glycine and potassium hexacyanoferrate(II)

등록 2008.08.09 ⋅ 43회 인용

출처 금속표면기술, 37권 3호 1986년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.30
구경 20 μm 미소 비아홀을 이용하여, 무전해구리도금 피막을 균일하게 석출하는 방법의 검토와, 무전해구리 도금에 의한 비아필링의 가능성에 관한 보고
  • SUS 316 몰리브덴 2~3 % 를 함유한 [오스테나이트]계 [스테인리스]강 Ni 10~14 % Cr 16~18 % 를 함유 황산에 대한 내식성이 우수하여 처리조 등에 이용 참고 [스테인리스]
  • 공통 요인은 오늘날의 전자산업에서 요구하는 피막 특성의 증가하는 특이성 및 제어 특성을 반영하는 작동변수, 조성변화 및 도금용액 오염의 영향을 받는 피막처리다.
  • 분산도금을 위한 기본욕 조성으로 염화크롬 붕산과 글리신, 설파민산 암모늄 등의 각종 유기물을 첨가한 것을 사용하고, 욕온도 30~60 ℃, 전류밀도 10~60 A/dm2 의 범위에서...
  • 헐셀 양극 · HullCell Anode 재질은 실제 도금용 양극과 같은 것을 사용한다. (예 : 광택 황산 구리 도금은 함인구리판을 사용) 헐셀 양극 종류 압연 평면 양극 (보통 사용...
  • 텅스텐이 함량 이 높은 이원계 및 삼원계 합금의 전착에 대해 전기적, 마찰학적, 전기 침식 및 자기적 특성의 독특한 조합으로 인해 최근 몇 년간 증가하였다. 전기 도금을 ...