로그인

검색

검색글 Seiichiro NAKAO 4건
중성 무전해 구리도금에 의한 ULSI 구리배선의 형성
Fabrication of ultra-large scale intergrated by electroless neutral copper plating

등록 2008.08.10 ⋅ 53회 인용

출처 표면기술, 50권 4호 1999년, 일어 4 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.08
Vaskelis 법의 코발트(ii) 화합물을 환원제로한욕을 개량하여, 지금의 무전해도금욕과 다른 구성성분과 석출기구에 기초로한 욕에서, 실리콘웨이퍼상의 트렌치 코넥타 홀내에 구리배선을 형성하는 방법을 검토
  • 전체 전자 산업의 성장과 기본 인프라 확장을 지원하려는 요구는 전기 도금 공정의 개선을 이끌 것이다. 기존의 전기도금 공정을 개선하기 위해서는 전기도금 공정의 기본적...
  • 무전해구리도금에 비스 (3- 설포프로필) 디설파이드 (SPS) 를 사용하면 구리 Cu 상향식 충진이 발생한다. 그러나 SPS 의 높은 가속효과는 피막의 전기적특성을 저하시키...
  • 알칼리 침지탈지제 ^ Alkaline Dipping Cleaner [탄산소다]ㆍ[규산소다]ㆍ[인산소다]ㆍ[계면활성제] 등으로 구성된 알칼리 용액에 피도금물을 침지하여 세척한다. 일반적으...
  • 특징 1) 경도가 일정하고 변화가 없다. 2) 광범위한 액온(30~50℃), 첨가량의 사용폭이 넓고, 액 관리가 용이합니다. 3) 전자 조각, 에칭법의 제판에 모두 사용 4) 양호한 레...
  • 기능도금의 최근의 형향과, 특징, 피막의 제작법 및 공업적인 응용에 관하여 설명