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검색글 SPS 39건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

구리도금욕중의 첨가제를 억제함에 따라 써브미크론 오다의 ULSI 배선형성의 가능성에 관하여 검토

구리/합금 · 일렉트로닉스실장 · 4권 3호 2001년 · Yuich TAKASA · Kimiko OYAMADA 외 .. 참조 49회

장기간 전해에 의한 첨가제의 소모 및 분해의 영향에 관하여, 브라인드비아 홀 필링성을 전기화학측정으로 평가 표준첨가제로로는 캐리어 PEG-4000 (폴리에틸렌글리콜 평균중합도 4000), 브라이트너 로는 SPS (비스 3-설포프로필)디설파이트-2-나트륨), 레벨러로는 JGB (야누스 그린 B)를 ...

구리/합금 · na · 19권 SPACE 2005년 · Kimiko Oyamada · 참조 29회

구리도금표면상에 관철된 PEG 분자에 관한 상세한 검토

구리/합금 · 岡山大学 · · 近藤和夫 · 松本敏明 참조 30회

마이크로비아는 다층 인쇄회로 기판 (PCB)의 한 기판 층을 통과하는 구멍이다. 이 구멍을 구리로 채우면 서로 다른 레이어에서 실행되는 두 개의 전기 회로 사이의 상호 연결이 생성된다. 최신 회로 설계와 결합하여 마이크로 비아 충전을 적용하면 PCB 및 그 주변에 구축 된 장치를 축소 할 수...

구리/합금 · Helsinki Universicty · 2006.8 · Antti Pohjoranta · 참조 47회

SPS 와 유사한 구조를 가진 브라이트너를 합성하여, 그 전기화학적 거동 및 미세 비아 또는 트렌치에의 스루홀 특성에 관하여 검토하였다. MES (2-메르캅토에탄 설폰산소다), MPS (3-메르캅토 -1-프로판 설폰산소다), SES (비스 -2-설포에틸 디설파이드 2 나트륨/시판품이 없어서 합성) 의 효과를 ...

아연/합금 · 일렉트로닉스실장학회 · 2003년 · Shingo Watanabe · Kimiko Oyamada 참조 44회

기초 검토로서 Au (111) 상에 형성된 SPS 흡착층과, 구리 Cu 전석중의 SPS 의 분해로 생성되는 3-멜캅토 프로핀 설포네이트 (MPS) 흡착층을 전기화학 STM 으로 관할한 결과 보고 황산구리를 주성분으로한 산성도금욕은 SPS(비스(3-설포프로필) 디설페이트 디소디움), MPS (3-멜캅토 프로필 설포...

니켈/합금 · 표면기술 · 59권 2호 2008년 · Shingo KANEKO · Koji YOSHIOKA 외 .. 참조 139회

PEG 나 염소 Cl- 를 함유한 계통에 있어서 SPS 의 흡착이 전석피막의 결정구조에 주는 영향을, 전기화학 임피던스법과 X선회절로 연구하였다. 1. 전석피막의 결정경이 미세화하여 결정배향은 (111) 면으로 우선배향된다. 2. SPS 가 전석면에 흡착하여, 전기화학적 작용을 나타낸다.

구리/합금 · 표면기술 · 59년 4호 2008년 · Hitoshi YAMAGUCIHI · Tsugito YAMASHITA 참조 33회

구리표면 근처의 구리중간체가 도금의 과전위와 역학에 영향을 미치는 것으로 나타났다. 첨가제는 표면에 구리층의 존재를 조절 한다. 레벨러와 억제기는 구리 Cu+ 형성을 억제하는 반면 첨가제를 가속화하면 Cu+ 형성을 향상시킨다. 비스 (소디움 설포프로필) 이황화물 (SPS) 첨가제에 의한 가속은 표...

구리/합금 · IBM J. RES. & DEV. · 49권 1호 2001년 · Philippe M.Vereecken · Robert A. Binstead 외 .. 참조 52회

Via Filling 에 영향을 주는 도금액중 첨가제가 구리도금 결정립에 미치는 영향을 고찰하고 전류 인가방식을 변화하여 결함이 없는 Via filling 방법을 찿는 연구

구리/합금 · 마이크로전자패키징학회지 · 14권 3호 2007년 · 이석이 · 이재호 참조 65회

집적회로 인터커넥트를 형성하는데 사용되는 구리도금조는 일반적으로 다마신 도금중에 비아홀과 트렌치라인의 수퍼필링을 용이하게 하는 3개 또는 4개의 성분첨가 혼합물을 포함 한다. 첨가제는 표면에 구리종의 존재를 조절한다. 레벨러와 억제제는 구리 Cu+ 형성을 억제하는 반면, ...

구리/합금 · IBM J. RES. & DEV. · 49권 1호 2005년 · P.M. Vereecken · R.A. binstead 외 .. 참조 46회