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최소 표면 석출의 마이크로 비아 충진 및 스루 비아 홀의 구리 도금 공정
Copper Plating Process for Filling Micro Vias and Through Via Holes with Minimum Surface Deposition

등록 2018.01.15 ⋅ 60회 인용

출처 WECC, 6월 27일 2013년, 영어 11 쪽

분류 연구

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기타

PCB Differentiation through technology - made in Europe

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.10
구리는 전기 및 열전도 특성과 전기도금 가능성으로 인해 많은 전자장치와 PCB 및 반도체 제조에 사용된다. 특히 전해구리는 PCB 및 IC 패키지 기판의 고밀도 상호연결 (HDI) 제조에 중요한 기술인 마이크로비아를 충진하는 데 널리 사용되었다. 이 연구의 목적은 최대 15 μm 의 낮은 표면 구리두께에 대한 최근 요구 사항을...
  • 주요산업 생산관행에서는 전착에 필요한 크롬이온이 황산음이온을 제공하고 촉매역할을 하는 크롬산-황산 용액을 사용하였다. 플루오로 규산 용액, 자가조절 고속도금조, 테...
  • 아연 도금조에는 아연이온과 광택제가 포함되어 있다. 광택제는 4차 암모늄기를 포함하는 폴리아민 또는 폴리아민의 혼합물이다.
  • 전착층에 있어서 전자현미경 사진에 의한 층단면의 미세형태의 관찰, X선회절에 의한 결정구조의 해석 및 층의 단면의 관찰
  • 경질 양극산화 피막 ^ Hard Anodizing [알루마이트]가 시작된 초기 무렵의 양극산화 처리의 한 방법으로 명확한 구분은 없으며, 지금도 정확히 확립된 기준은 없다. 보통 피...
  • 분산도금 표면 현미경 사진으로, 새로운 기능을 가진 표면 피막 생성법으로서 최근 주목받고 있다. 분산 도금이 비교적 곤란하다고 여겨지고 있는 서젠트욕으로 부터의 ...