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인산염피막의 형성 - 반응속도론적 취급을 중심으로

등록 2010.01.04 ⋅ 47회 인용

출처 금속표면기술, 20권 5호 1969년, 일어 4 쪽

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기타

リン酸塩皮膜の形成 - 反応速度論的取扱いを中心として-

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.09
인산염피막화성이 전기화학적과정을 취함을 나타내며, 반응은 캐소드부와 그 근접에사 일어나는 도보 화학반응도 있다.
  • 반도체칩에 초미세 회로 기능을 형성하는데 사용되는 산성구리 전기도금조에는 허용가능한 구리도금을 얻기 위해 엄격하게 제어해야 하는 억제기, 억제 방지제 및 레벨러 첨...
  • 지금까지 많은 금속, 합금 도금이 수용액을 사용하여 이루어지고 있으며, 굳이 유기 용매를 사용하는 이유를 찾으려면 수용액을 사용해서는 실현되지 못한 도금을 대상으로 ...
  • 전착의 응력 측정을 위한 도구를 설명하였다. 측정기의 작동은 금속성 나사선의 외부에 금속(도금)이 전착되면 응력에 의해 유도된 나선의 곡률 반경의 변화를 측정하여 계...
  • 팔라듐은 금보다 저렴하며 금대신 전자 장치에 사용되기 시작했다. 따라서 레이저 강화 팔라듐도금은 생산비용과 금 소비에서 비용을 절약하는데 도움이 될것이다.
  • 구리(ii) 이온을 산화제로 할때 질화티타늄 TiN 또는 질화탄탈룸 TaN 의 표면일부가 용해되어 만들어진 전자에 따라 구리가 환원석출 되는 치환반응을 구성하여, 이것이 베...