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검색글 Hideto WATANABE 6건
마이크로범프형성과 도금
Microbump formation using electroplating of electroless plating

등록 : 2010.01.26 ⋅ 23회 인용

출처 : 표면기술, 46권 9호 1995년, 일어 3 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 기타기술자료 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2015.08.19
LSI의 고집적화 다양화에 반하여 범프라 부르는 돌기형전극에 의한 칩과 외부회로를 접속하고 았어, 전기도금 및 무전해도금법에 의한 마이크로범프 형성에 관하여 설명
  • 염산계의 Carosel 형태 전기도금 공정에서 지금까지 추측으로만 일관해온 즐무의 생성원을 명확히 규명하고 아울러 그 억제방법에 대한 정확한 방향을 제시함으로써 줄무늬...
  • 소재와 도금피막 및 박리제의 선정을 설명하고, 소재표면이 손상된 도금피막의 박리방법에 관하여 설명
  • 이온 크로마토그래피(IC)는 산성 구리도금조에서 염화물을 측정하는 편리한 방법을 제공한다. 이욕은 반도체 웨이퍼에 구리를 전착하는데 사용된다. 염화물 농도 모니터링은...
  • Magni 234는 가공 머플러(mufflers), 공명기(resonators), 배기관(tail pipes)에 일반으로 사용되는 스테인리스 강과 알루미늄 처리된 스테인리스 강을 위한 블랙(black) 내...
  • 피로인산 구리니켈합금도금 욕에서 황산니켈을 측정하기 위한 역적정 방법을 확립하였다. 피로인산은 가열조건 하에 황산을 이용하여 인산으로 분해하여 측정하였다. 구...