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무전해 구리도금을 이용한 구리 폴리이미드 다층배선판
A fine Line Multilayer Substate with Photo-sensitive Polyimide Dielectric and Electroless-Copper Plating Conductor

등록 : 2010.05.31 ⋅ 39회 인용

출처 : 써킷테크노로지, 2권 2호, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.19
고성능 전자 장치의 실현은 LSI 의 고속화·고집적화와 함께, LSI 칩 상호간의 배선 접속부의 신호 지연을 최대한 줄일 고밀도 실장 기술이 필요하다. 이를 위해 유전율의 작은 폴리이미드 수지를 층간 절연막으로 하는 고밀도 다층 배선판의 연구가 진행되고 있다. 그러나 고속 펄스 전송에 필요한 특성 임피던스 배선저항을...
  • 붕소산 무전해 니켈도금 ^ Electroless Nickel-Boron Plating 석출피막은 Ni 99.0~99.5 % 로 핀홀이 많으며 강자성체의 미결정성으로 Hv 700~800 의 경도와 1400~1450 ℃ 의 ...
  • 현장도금기술 2 책에 나오지 않는 도금 - 전처리 2 알칼리 전해탈지법 지난호(75ㆍ76호)에는 일반적인 [침지탈지]에 대하여 설명하였다. 다음은 제품의 기능에 직접 영향을...
  • 아연도금의 표면외관과 거칠기를 향상시키는 첨가제 개발에 관한 것으로 이를 위하여 고전류밀도에서도 첨가제를 효과적으로 조사할 수 있는 순환셀장치에 전기화학적 거동...
  • 전석 니켈-황 Ni-S 합금을 만들어, 마이크로비커스 경도시험기를 이용하여, 역성변형 저항과 취성을 평가
  • 새로운 검색방법의 하나로 초임계전류중의 아닐분석방법을 검토