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HEEF 경질크롬 도금욕
HEEF hard chromium plating process

등록 : 2008.08.07 ⋅ 75회 인용

출처 : 실무표면기술, 33권 7호 1986년, 일본어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 무전해 | 최종수정일 : 2021.01.15
전류효율이 40% 로 높고, 무도금부의 에칭이 없으며, 종래욕의 3~5 배의 도금속도를 가진 새로운 고속 크롬도금욕 HEEF에 관한 설명
  • 황산크롬용액에서 로듐도금에 관하여, 용액성분과 첨가제의 역할등을 검토
  • 금속이온의 방해는 EDTA의 첨가에 따라 억제되는것을 알수 있어, 이를 이용한 금속이온을 함유한 시료중의 미량의 염화시안을 정량하는 방법을 검토
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