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등속 전기 영동법에 의한 구리도금욕의 분포
Analysis of copper plating baths by isotachophoresis

등록 : 2008.08.12 ⋅ 38회 인용

출처 : 금속표면기술, 38권 11호 1987년, 일본어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.06
등속 전기영동법을 이용하여, 균일성이 우순한 프린트기판의 스루홀 도금에 많이 사용되는 피로인산 구리에서 실온에, 활성탄 처리로 재생이 가능한 산성 황산 구리욕중의 이온을 측정법을 같이 검토함
  • 구리의 화학적 기계적 평탄화(CMP)는 서브미크론 범위와 다단계 금속화를 생성하는 데 필수적인 공정이다. 동적 및 정적 제거 속도 측정뿐만 아니라 전기화학을 사용하는 Cu...
  • 자동차 산업에서 표면 기술의 역할을 설명하였다. 질화물, 다이아몬드 및 cBN과 같은 다양한 경질피막이 제조 공정용으로 사용된다. 높은 경도와 낮은 마찰 계수로 인해...
  • 우수한 특성을 가지고 있는 로듐은 장식은 물론 각종 전기접점, 전자산업 부품, 광학용 장비 및 부식마모 부품 등의 산업등 넓은 용도를 가지고있다. 장식은 광택 색상이 좋...
  • 보다 정확하고 빠른 황산바륨의 분석법에 관하여 검토한 결과로, 적당한 파장의 흡광법을 이용한 분석에서 방해이온의 영향을 제거하고 정확신속히 분석하는 방법
  • 탈산구리 ^ Oxygen Free Copper 산소를 P 로 탈산하여 0.01 % 이하로 한 구리로 잔류 P 의 양은 0.02 % 이하 고온에서 수소 메짐성 없으며, 산소를 흡수하지 않음 연화 온도...