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제2환원제로서 DMAB를 이용한 구리 미세패턴에 있어서 선택적 무전해니켈 도금
Selective electroless nickel deposition on the copper fine atterns by using DMAB as a second reducing agent

등록 : 2008.08.19 ⋅ 53회 인용

출처 : 표면기술, 52권 3호 2001년, 일본어 5 페이지

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.12.05
DMAB을 제2환원제로한 무전해니켈 도금의 석출 메카니즘과 선택적 석출성에 관하여 검토한 결과보고
  • 이 내용은 1998년 4월부터 수회에 걸쳐 한국표면처리공업신문(현 표면처리저널)에 연재된 내용입니다. 가급적 게제된 내용 그대로 정리하였으나, 잘못된 부분은 최근의 기술...
  • 도금이란? ^ PlatingㆍGalvanizing 넓은 의미에서 도금은 어떤 물체에 다른 물체 막을 앏게 입히는 것으로, 성능과 기능 그리고 외관을 향상할 목적으로하는 처리를 의미한...
  • 현재 문서에서는 기존의 5개 전기도금 시설의 예를 사용하여 폐쇄 루프 시스템을 특징짓는 독특한 기능과 폐쇄 시스템을 확장하기 위해 적용할 수 있는 조치를 보여주었다. ...
  • 전자부품의 미세배선에 형성되는, 구리소재나 니켈소재를 부식시키지 않고, 균일한 도금이 가능한 치환 무전해금 도금욕을 제공한다. 니켈 소재상 및/또는 구리 소재상에 금...
  • 도금 재료 · Plating Materials 참고 [유기약품|유기 화합물] [무기약품|무기 화합물] [첨가제|광택제ㆍ첨가제] [도금약품] [연마재] [양극]